電子氣體在高新技術(shù)中的應(yīng)用

進(jìn)入20世紀(jì)90年代以后，隨著我國(guó)高新技術(shù)的快速發(fā)展，計(jì)算機(jī)工業(yè)對(duì)大規(guī)模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加；隨著新型能源的發(fā)展，我國(guó)大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產(chǎn)；此外，新型電光源、光電半導(dǎo)體器件（GaAs、InP、AlGaAs）、光纖通訊器件也獲得迅猛發(fā)展，在上述高新產(chǎn)品的生產(chǎn)中，都需要大量高純氣體，以制造出性能可靠的各種器件。

大規(guī)模集成電路
化學(xué)氣相沉淀：SiH₄，NH₃，O₂，N₂O，TEOS（四乙氧基硅）
化學(xué)刻蝕：CF₄，SF₆，NF₃，Cl₂，CCl，BCl₃，KrF，ArF，HBr，HCl
化學(xué)摻雜：BF₃，B₂H₆，PH₃，AsH₃

液晶屏
化學(xué)氣相沉淀：SiH₄，SiNx
化學(xué)刻蝕：SF₆，HCl，Cl₂

太陽能電池
化學(xué)氣相沉淀：SiH₄，NH₃，NF₃
擴(kuò)散、刻蝕：POCl₃，O₂，CF₄

光電半導(dǎo)體
化學(xué)氣相沉淀：AsH₃，PH₃，NH₃，N₂，H₂
化學(xué)刻蝕：BCl₃，Cl₂

光導(dǎo)纖維
化學(xué)氣相沉淀：SiH₄，SiCl₄，D₂，GeCl₄
化學(xué)刻蝕：CF₄，KrF，ArF，Cl₂，SF₆